產(chǎn)品描述

上海伯東日本原裝進口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實驗室研究的離子蝕刻機, 一般通氬氣 Ar, 無污染, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當前氣體成分, 判斷刻蝕情況.

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 產(chǎn)品優(yōu)勢：

Hakuto 離子蝕刻機 IBE 主要優(yōu)點
1. 干式制程的微細加工裝置, 使得在薄膜磁頭, 半導(dǎo)體元件, MR sensor 等領(lǐng)域的開發(fā)研究及量產(chǎn)得以廣泛應(yīng)用.
2. 物理蝕刻的特性, 無論使用什么材料都可以用來加工, 所以各種領(lǐng)域都可以被廣泛應(yīng)用.
3. 配置使用美國考夫曼離子源
4. 射頻角度可以任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀.
5. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上, 所以可以在低溫環(huán)境下蝕刻.
6. 配置公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)傳輸機構(gòu), 使得被蝕刻物可以得到比較均勻平滑的表面.
7. 機臺設(shè)計使用自動化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生產(chǎn)過程.

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 技術(shù)參數(shù)：

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE技術(shù)參數(shù):

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 組成：

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 組成：

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 蝕刻速率：

Hakuto 離子蝕刻機通氬氣 Ar 不同材料的蝕刻速率: