Clevios F ET

即用型涂料配方，在濕膜厚度為12微米時(shí)，SR值低于200歐姆/平方。

Clevios F DX2/ Clevios XL

新型雙組分涂料配方，具有更好的硬度和耐溶劑性。

CLevios Etch和 CLevios Set S3

用于涂層線(xiàn)路圖案的輔助材料。CLevios Etch是一種水溶性粉末，CLevios Set S3是一種可印刷掩模（絲網(wǎng)印刷）。

賀利氏開(kāi)發(fā)的一種特殊技術(shù)，通過(guò)濕法工藝對(duì)Clevios線(xiàn)路圖案進(jìn)行處理。生成的線(xiàn)路肉眼幾乎看不見(jiàn)，因此不需要額外的步驟遮蓋，從而降低了成本。掩膜可以通過(guò)經(jīng)濟(jì)的絲網(wǎng)印刷、凹板印刷或柔性印刷工藝來(lái)完成，或者通過(guò)光刻膠來(lái)實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的結(jié)構(gòu)。生產(chǎn)過(guò)程中，可以通過(guò)CCD進(jìn)行光學(xué)檢測(cè)，這種特殊分析檢測(cè)方式很容易實(shí)現(xiàn)。賀利氏可提供技術(shù)支持服務(wù)。

應(yīng)用領(lǐng)域眾多：顯示器、照明、觸控傳感器、車(chē)載器件、有機(jī)太陽(yáng)能電池、高分子電容器、抗靜電涂層、印刷電子。

抗靜電壓敏膠：CLevios P SB6

太陽(yáng)能光伏電池：Clevios HTL Solar，Clevios F HC Solar

絲網(wǎng)印刷：Clevios SV3，SV3 stab，SV4，SV4 stab

傳感器、柔性電子：Clevios ph1000

OLED空穴傳輸層：Clevios PVP AI 4083

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